ASML在EUV光刻技术上获得突破性进展

2017-07-14 17:06:24 PCBA加工厂家 236

旧金山在EUV光刻技术上已经花费了大量的时间,而且成本远远几乎比任何人预测的都要高,但半导体行业看起来越来越接近极端紫外线(EUV)光刻技术,在不久的将来客应用于大批量生产中。

EUV光刻技术

在本周Semicon West展会上,ASML光刻供应商取得重要和长期难以捉摸的里程碑:一个250瓦的EUV光源的示范。源极紫外光子传递到扫描仪,使晶圆曝光量——直接等同于生产力的测量。芯片制造商一直坚持认为,250瓦的电源必须达到每小时125片晶圆吞吐量(WPH),以及ASML和西默无力推动技术的发展,一直被认为是近年来EUV发展的主要障碍。

ASML战略营销总监Michael Lercel表示,“该公司通过真正了解来源的转换效率并实施正确的控制措施,已经展示了250瓦特的源码还没有出货。”

包括英特尔,三星,台积电和Globalfoundries在内的领先芯片制造商正计划在未来两年内将EUV实现大批量生产。 ASML通过在二月吞吐量104 WPH和250瓦特源电力来表明了该公司有一个路线图,以得到125 WPH高管认可。

在过去五年中,电源从2012年25瓦特提高了10倍。发表了关于EUV生产经济学演讲的Lercel开玩笑说,在十年前他在Cymer工作时,达到250瓦源头的目标是遥遥不可及的。

根据Lercel的说法,ASML已经在该领域已经有14种开发工具,现在已经表明了超过100万片晶圆,其中包括超过50万片晶圆。 ASML的NXE:3400B生产EUV工具的首批出货量在今年早些时候已经开始。

截至4月份,ASML已经积压了21个等待交货的EUV系统,其中大部分是销售给英特尔。该公司预计将在下周公布其第二季度业绩时提供其EUV积压的数量。

EUV,其发展可以追溯到20世纪70年代与X射线光刻的不良发展努力。半导体行业最初希望在十年前使用EUV,但发展持续不前。据估计,该行业已经花费了超过200亿美元来开发EUV。

尽管ASML的进步,评论家还继续对EUV持怀疑态度。 VLSI研究公司资深半导体设备分析师兼总裁G. Dan Hutcheson表示:“诋毁者不断有,但ASML不断实现目标,”它确实已经花费了很长时间,但我们会实现这个目标。



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